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?什么是MOS管軟擊穿,穿通擊穿原理分析-KIA MOS管

信息來(lái)源:本站 日期:2024-06-17 

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什么是MOS管軟擊穿,穿通擊穿原理分析-KIA MOS管


MOS管軟擊穿現(xiàn)象

MOS管軟擊穿現(xiàn)象主要涉及到穿通擊穿(Punch-Through Breakdown),這是一種特定的擊穿機(jī)制,其特征包括電流逐步增大和耗盡層展寬。這種擊穿類型發(fā)生在源漏的耗盡層相接時(shí),此時(shí)源端的載流子注入到耗盡層中,被耗盡層中的電場(chǎng)加速達(dá)到漏端,導(dǎo)致電流急劇增大。


穿通擊穿原理

穿通擊穿主要發(fā)生在源漏之間的耗盡層相接時(shí)。這種擊穿的特點(diǎn)包括電流逐步增大和電流急劇增大點(diǎn),這是因?yàn)楹谋M層擴(kuò)展較寬,導(dǎo)致產(chǎn)生較大的電流。穿通擊穿的軟擊穿點(diǎn)發(fā)生在源漏的耗盡層相接時(shí),此時(shí)源端的載流子注入到耗盡層中,被耗盡層中的電場(chǎng)加速達(dá)到漏端,因此,穿通擊穿的電流也有急劇增大點(diǎn)。這個(gè)電流的急劇增大和雪崩擊穿時(shí)電流急劇增大不同,這時(shí)的電流相當(dāng)于源襯底PN結(jié)正向?qū)〞r(shí)的電流,而雪崩擊穿時(shí)的電流主要為PN結(jié)反向擊穿時(shí)的雪崩電流。穿通擊穿一般不會(huì)出現(xiàn)破壞性擊穿,因?yàn)榇┩〒舸┑膱?chǎng)強(qiáng)沒(méi)有達(dá)到雪崩擊穿的場(chǎng)強(qiáng),不會(huì)產(chǎn)生大量電子空穴對(duì)。


穿通擊穿:

穿通擊穿受多晶柵長(zhǎng)度影響

1.破壞性擊穿并不會(huì)出現(xiàn),

原因:場(chǎng)強(qiáng)沒(méi)有達(dá)到雪崩擊穿場(chǎng)強(qiáng),并不會(huì)產(chǎn)生大量電子空穴對(duì);


2.在溝道中間發(fā)生;

原因:穿通不容易發(fā)生在溝道表面,溝道注入使表面濃度大形成,NMOS管場(chǎng)效應(yīng)管有防穿通注入;


3.發(fā)生在溝道中間:鳥(niǎo)嘴邊緣濃度 > 溝道中間濃度


4.軟擊穿:擊穿過(guò)程中,電流漸漸變大;

原因:耗盡層擴(kuò)展較寬,同時(shí)發(fā)生DIBL效應(yīng),源襯底結(jié)正偏出現(xiàn)電流漸漸變大;


5.軟擊穿點(diǎn):在源漏的耗盡層相接時(shí),源端載流子注入耗盡層中,被電場(chǎng)加速達(dá)到漏端,電流變大,與雪崩擊穿電流不同,與源襯底PN結(jié)正向?qū)〞r(shí)電流相同。

MOS管軟擊穿,穿通擊穿

穿通擊穿特點(diǎn)

(1)穿通擊穿的擊穿點(diǎn)軟,擊穿過(guò)程中,電流有逐漸增大的特征,這是因?yàn)楹谋M層擴(kuò)展較寬,發(fā)生電流較大。另一方面,耗盡層展廣大容易發(fā)生DIBL效應(yīng),使源襯底結(jié)正偏呈現(xiàn)電流逐漸增大的特征。


(2)穿通擊穿的軟擊穿點(diǎn)發(fā)生在源漏的耗盡層相接時(shí),此刻源端的載流子注入到耗盡層中, 被耗盡層中的電場(chǎng)加快到達(dá)漏端,因此,穿通擊穿的電流也有急劇增大點(diǎn),這個(gè)電流的急劇增大和雪崩擊穿時(shí)電流急劇增大不同,這時(shí)的電流相當(dāng)于源襯底PN結(jié)正向?qū)〞r(shí)的電流,而雪崩擊穿時(shí)的電流主要為PN結(jié)反向擊穿時(shí)的雪崩電流,如不作限流,雪崩擊穿的電流要大。


(3)穿通擊穿一般不會(huì)呈現(xiàn)破壞性擊穿。因?yàn)榇┩〒舸﹫?chǎng)強(qiáng)沒(méi)有到達(dá)雪崩擊穿的場(chǎng)強(qiáng),不會(huì)發(fā)生許多電子空穴對(duì)。


(4)穿通擊穿一般發(fā)生在溝道體內(nèi),溝道外表不容易發(fā)生穿通,這主要是因?yàn)闇系雷⑷胧雇獗頋舛缺葷舛却髽?gòu)成,所以,對(duì)NMOS管一般都有防穿通注入。


(5)一般的,鳥(niǎo)嘴邊際的濃度比溝道中心濃度大,所以穿通擊穿一般發(fā)生在溝道中心。


(6)多晶柵長(zhǎng)度對(duì)穿通擊穿是有影響的,跟著柵長(zhǎng)度添加,擊穿增大。而對(duì)雪崩擊穿,嚴(yán)格來(lái)說(shuō)也有影響,可是沒(méi)有那么明顯。


防止穿通擊穿的方法包括優(yōu)化器件結(jié)構(gòu),如通過(guò)調(diào)整摻雜濃度來(lái)抑制耗盡區(qū)寬度的延展,以及在設(shè)計(jì)和制造過(guò)程中采取適當(dāng)?shù)拇胧﹣?lái)避免或減少穿通擊穿的發(fā)生。此外,對(duì)于靜電敏感的MOS管,采取適當(dāng)?shù)撵o電防護(hù)措施也是必要的,以防止靜電放電導(dǎo)致的擊穿現(xiàn)象。


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