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mos管結電容,結電容對電路的影響-KIA MOS管

信息來源:本站 日期:2025-04-10 

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mos管結電容,結電容對電路的影響-KIA MOS管


mos管結電容

MOS管的結電容是器件內部因半導體結構形成的寄生電容。

主要包括:

柵源電容(Cgs):柵極與源極之間的電容,影響開啟/關斷速度。

柵漏電容(Cgd,又稱米勒電容):柵極與漏極之間的電容,開關過程中因米勒效應會顯著延長過渡時間。

漏源電容(Cds):漏極與源極之間的電容,與體二極管特性相關。

這些電容的容值并非固定,而是隨Vds電壓非線性變化,尤其在功率MOSFET中更為明顯。


mos管結電容的形成

MOS管結電容,是MOS管在極化時,于柵極與漏極/源極間形成的、能存儲電荷的電容。它作為MOS管的關鍵參數,對管子的動態功耗、響應速度等特性有著決定性影響,尤其在高頻應用中,其表現尤為關鍵。


勢壘電容:功率半導體中,當N型和P型半導體結合后,由于濃度差導致N型半導體的電子會有部分擴散到P型半導體的空穴中,因此在結合面處的兩側會形成空間電荷區(該空間電荷區形成的電場會阻值擴散運動進行,最終使擴散運動達到平衡)。


擴散電容:當外加正向電壓時,靠近耗盡層交界面的非平衡少子濃度高,遠離非平衡少子濃度低,且濃度自高到底逐漸衰減直到0。當外加正向電壓增大時,非平衡少子的濃度增大且濃度梯度也增大,外加電壓減小時,變化相反。該現象中電荷積累和釋放的過程與電容器充放電過程相同,稱為擴散電容。


寄生電容結構

MOS管寄生電容結構如下,其中,多晶硅寬度、溝道與溝槽寬度、G極氧化層厚度、PN結摻雜輪廓等都是影響寄生電容的因素。

mos管結電容

mos管結電容

根據MOS管規格書中對三個電容的定義可以知道:

Ciss = Cgs + Cgd ;

Coss = Cds + Cgd;

Crss = Cgd;

因此可以得到MOS管單獨三個引腳之間的電容Cgs柵源電容、Cgd柵漏電容、Cds漏源電容。Cds漏源電容又叫米勒電容。


mos管結電容對電路的影響

開關時間和開關損耗:

輸入電容(Ciss)影響開關時間和開關損耗。較大的輸入電容會導致開關時間延長,增加開關損耗,從而影響電路的效率和穩定性。


諧振現象:

輸出電容(Coss)可能導致諧振現象。在開關過程中,輸出電容會充電和放電,如果處理不當,可能會引起電路的諧振,影響電路的穩定性和可靠性。


自激振蕩:

反向傳輸電容(Crss)影響關斷延時,并可能引起自激振蕩。自激振蕩會導致電路無法正常工作,甚至損壞器件。


漏電流增加:

寄生電容的存在會導致漏電流增加,特別是在高頻工作條件下。這會影響MOSFET的功耗和效率。


響應時間縮短和信號延遲增加:

寄生電容會儲存電荷,導致MOSFET的響應時間縮短,但也可能導致信號延遲增加和輸出波形失真。


功耗增加:

由于寄生電容會儲存電荷并在切換過程中釋放,這會導致MOSFET的功耗增加,特別是在高頻應用中更為明顯。


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